DENVER, COLORADO, RIAUGREEN.COM – Media OutReach – Perusahaan terkemuka dalam menyediakan solusi pengukuran, konversi, dan kontrol energi dengan presisi tinggi, Advanced Energy, mengumumkan peluncuran tiga solusi baru yang dapat mendukung teknologi canggih peralatan proses semikonduktor wafer node, di pameran SEMICON WEST 2020.

Wakil Presiden dan Manajer umum, Semikonduktor, Advanced Energy, Peter Gillespie, dalam keterangan yang diterima, Senin (03/08/2020), mengatakan, seiring munculnya Revolusi Industri ke-4, teknologi manufaktur semikonduktor terus berkembang, dan dengan cepat mengalami perubahan. Dalam pengembangan solusi daya terkait, Advanced Energy selalu di garis depan, sistem teknogi mereka dapat memastikan bahwa produk semikonduktor lebih kompak, dan produsen dapat lebih cepat dan ketat mengontrol proses pembuatan, dan mengurangi biaya.

"Produksi massal chip baru telah mendorong pengembangan seluruh industri informasi. Sistem pasokan listrik dari peralatan proses hampir sepenuhnya diabaikan sebelumnya, dan sekarang semakin banyak orang menegaskan pentingnya memainkan peran yang sangat penting dalam proses ini. Kami senang berbagi produk kami di bidang ini, seperti produk listrik yang dapat mendukung seluruh proses. Kami juga akan memimpin dalam meluncurkan "produk listrik yang dapat mendukung seluruh platform" selama periode pameran. Termasuk serangkaian produk Portofolio penawaran Artesyn Embedded Power dari Advanced Energy," urainya.

Tiga Produk Daya Pemrosesan Baru dari Advanced Energy:

1. eVoS™ LE

eVoS™ LE adalah teknologi catu daya peralatan proses gelombang non-sinusoidal plasma baru. Platform yang disebut eVoS ini dapat mengendalikan energi ion yang diproyeksikan pada permukaan material dalam rentang yang sangat kecil. Ini adalah teknologi yang semakin penting untuk proses etsa dan deposisi yang canggih, dan dapat digunakan untuk menghasilkan presisi 5 nanometer (nm) dan wafer di bawahnya. Untuk waktu yang lama, proses pasta piezoelektrik frekuensi radio gelombang sinus menggunakan sistem catu daya multi-frekuensi yang lebih kompleks, dan platform eVoS adalah solusi khusus yang menghasilkan distribusi energi ion yang sempit, menyediakan pilihan lain yang lebih sederhana untuk pasar.

Solusi Advanced Energy dapat memastikan bahwa rentang distribusi energi ion lebih terkontrol secara langsung, juga membantu meningkatkan efisiensi energi dari catu daya bias, dan dapat mengurangi konsumsi daya, yang lebih baik daripada solusi tradisional. Desain ukuran paket wafer menjadi semakin rumit, dan keuntungan dari teknologi baru ini harus dimanfaatkan sepenuhnya untuk menyelesaikan masalah produksi. eVoS LE (yaitu energi rendah) dapat menyediakan sistem daya yang mudah dan akurat untuk mengontrol jumlah catu daya, dan paling cocok untuk aplikasi dalam proses plasma yang paling penting, seperti etsa lapisan atom (ALE), etsa, pembersihan, pengendapan dan pengendapan lapisan atom (ALD).

2. Navigator® II FCi

Navigator® II FCi dari Advanced Energy selalu menjadi platform jaringan pencocokan impedansi terkemuka di industri dan telah sangat populer di pasar. Perusahaan sekarang mengambil keuntungan dari kesempatan untuk meluncurkan Navigator II FCi baru. Platform jaringan pencocokan solid-state yang lebih cepat ini mengungguli produk pencocokan standar dalam hal nilai, kecepatan, dan rentang frekuensi. Navigator II FCi mengadopsi teknologi PIN dioda berkecepatan tinggi, dan pencocokan solid-state Navigator II FastCap ™ pertama dari Advanced Energy yang diluncurkan di pasar memiliki keunggulannya sendiri. Keduanya dapat memiliki efek pelengkap, memungkinkan output daya dan kisaran impedansi untuk diperluas, waktu reaksi juga dapat disingkat menjadi sub-milidetik.

Navigator® II FCi tidak memiliki bagian yang berputar, sehingga keandalan dan reproduktifitasnya lebih baik daripada pencocokan kapasitor vakum tradisional. Navigator II FCi dapat mendukung aplikasi canggih yang terkait dengan etsa lapisan atom dan meningkatkan fungsinya sehingga aplikasi tersebut dapat mendukung berbagai aplikasi yang meningkat dari hari ke hari untuk memenuhi spesifikasi pasar produk baru. Misalnya, sistem catu daya RF baru yang disebut Paramount HFi tidak hanya mengintegrasikan pencocokan dan generator, tetapi juga menggunakan Navigator II FCi, teknologi dioda PIN berkecepatan tinggi.

3. Paramount® HFi

Sistem daya RF yang sangat terintegrasi ini menggunakan paket kecil, tetapi dengan kinerja yang sangat baik dan biaya rendah, dapat memenuhi persyaratan ketat dari alat pengendapan canggih. Pada tahun 2000, Advanced Energy berhasil mengembangkan sistem catu daya pertama yang diproduksi secara massal di industri yang sepenuhnya terintegrasi dengan generator dan korek api. Sistem catu daya RF yang disebut Apex ini masih merupakan sumber daya yang ideal untuk pengendapan aplikasi RF. Keuntungannya adalah dapat beralih antara empat rentang modulasi frekuensi yang berbeda. Paramount HFi baru mengambil langkah besar di sepanjang jalur ini, menawarkan 32 rentang modulasi frekuensi yang berbeda, dan juga dilengkapi dengan sistem kontrol digital penuh yang ditingkatkan dan sensor VI (Radio Frequency Metrology) baru.

Paramount® HFi dapat mendukung kontrol proses yang canggih dan memiliki keunggulan pengulangan yang tinggi, bahkan dilengkapi dengan mode mesin eksitasi bersama untuk memastikan adopsi berbagai sistem dalam konfigurasi cluster dapat menyinkronkan operasi dan mendukung protokol komunikasi tingkat lanjut (EtherCAT). Paramount HFi memiliki keunggulan ukuran kecil, waktu respons dalam milidetik, dan stabilitas dan keandalan tinggi. Ukuran ringkas Paramount HFi, waktu respons milidetik, dan keandalan tinggi menjadikannya ideal untuk langkah-langkah proses pengendapan durasi pendek saat ini, dan di mana kecepatan dan keandalan semakin dipandang sebagai faktor penting dalam pemrosesan NAND canggih dan perangkat pengendapan pengulangan tinggi lainnya.

Spesifikasi teknis lebih detail, silakan kunjungi www.advancedenergy.com.